- PII
- S0544126925010068-1
- DOI
- 10.31857/S0544126925010068
- Publication type
- Article
- Status
- Published
- Authors
- Volume/ Edition
- Volume 54 / Issue number 1
- Pages
- 55-63
- Abstract
- Films of negative photoresists (FR) AZ nLOF 2020, AZ nLOF 2070 and AZ nLOF 5510 with a thickness of 0.99–6.0 microns deposited on the surface of silicon wafers by centrifugation have been studied by the methods of microindentation and IR Fourier spectroscopy using a diffuse reflection module. It has been established that FR films behave like elastoplastic materials in which tensile elastic stresses are present. The most intense in the reflective absorption spectra of AZ nLOF photoresistive films are bands of valence vibrations of the aromatic ring (≈ 1500 cm–1), pulsation vibrations of the aromatic ring carbon skeleton (double maximum ≈ 1595 and 1610 cm–1), a wide structured band with several maxima in the range of 1050–1270 cm–1 and a band with a maximum of ≈ 1430 cm–1 due to vibrations of the benzene ring, associated with the CH2 bridge. It is shown that the line corresponding to the vibrations of the CH3 groups with a maximum at 2945 cm–1 is caused by the solvent. The differences in the FR spectra of AZ nLOF 2020 and AZ nLOF 2070 are associated with the presence of a residual solvent in the films and the interaction of its molecules with the aromatic rings of the main FR component – phenol-formaldehyde.
- Keywords
- негативный фоторезист кремний микроиндентирование ИК спектроскопия растворитель
- Date of publication
- 16.09.2025
- Year of publication
- 2025
- Number of purchasers
- 0
- Views
- 18
References
- 1. AZ nLOF 20xx negative resist // www.microchemicals.com/products/photoresists
- 2. Бринкевич Д.И., Харченко А.А., Просолович В.С., Оджаев В.Б., Бринкевич С.Д., Янковский Ю.Н. Модификация спектров отражения пленок диазохинон-новолачного фоторезиста при имплантации ионами бора и фосфора // Микроэлектроника – 2019 – Т. 48, № 3. – С. 235–239.
- 3. Poljansek I., Sebenik U., Krajnc M. Characterization of phenol-urea-formaldehyde resin by inline FTIR spectroscopy// Journal of Applied Polymer Science. – 2006 – V. 99, № 5. – P. 2016–2028.
- 4. Бринкевич С.Д., Бринкевич Д.И., Просолович В.С., Ластовский С.Б., Петлицкий А.Н. Спектры нарушенного полного внутреннего отражения пленок диазохинон-новолачного резистов. // Журнал прикладной спектроскопии. – 2020. – T. 87, № 6 – С. 941–948.
- 5. Бринкевич Д.И., Гринюк Е.В., Бринкевич С.Д., Просолович В.С., Колос В.В., Зубова О.А., Ластовский С.Б. Инфракрасная Фурье-спектроскопия структур фоторезист/кремний, используемых для обратной литографии // Журнал прикладной спектроскопии. – 2023. – T. 90, № 6. – С. 863–869.
- 6. Бринкевич С.Д., Гринюк Е.В., Бринкевич Д.И., Просолович В.С. Модификация пленок диазохинон-новолачного фоторезиста за областью внедрения ионов В+ // Химия высоких энергий. – 2020. – T. 54, № 5. – С. 377–386.
- 7. Garcia I.T.S., Zawislak F.C., Samios D. The effects of nuclear and electronic stopping powers on ion irradiated novolac-diazoquinone films // Applied Surface Science. – 2004. – V. 228. № 1–4. P. 63–76.
- 8. Тарасевич Б.Н. ИК спектры основных классов органических соединений. Справочные материалы. – М.: МГУ, 2012. – 55 c.
- 9. Бринкевич Д.И., Бринкевич С.Д., Петлицкий А.Н., Просолович В.С. Трансформация спектров нарушенного полного внутреннего отражения в процессе сушки диазохинон-новолачного фоторезиста // Микроэлектроника. – 2021 – Т. 50, № 4. С. 274–280.
- 10. Оджаев В.Б., Петлицкий А.Н., Просолович В.С., Ковальчук Н.С., Соловьев Я.А., Жигулин Д.В., Шестовский Д.В., Янковский Ю.Н., Бринкевич Д.И. Спектры нарушенного полного внутреннего отражения азотированных структур SiO2/Si // Журнал прикладной спектроскопии. – 2022. – T. 89, № 4. С. 498–504.
- 11. Преч Э., Бюльманн Ф., Аффольтер К. Определение строения органических соединений. Таблицы спектральных данных, Москва, Мир, Бином. 2006. 438 c.
- 12. Бринкевич С.Д., Бринкевич Д.И., Просолович В.С., Свердлов Р.Л. Модификация спектров нарушенного полного внутреннего отражения пленок диазохинон-новолачного резиста при облучении γ-квантами Со60 // Химия высоких энергий. – 2021. – T. 55, № 1. – С. 66–75.
- 13. Бринкевич Д.И., Просолович В.С., Янковский Ю.Н. Модификация пленок диазохинонноволачного фоторезиста имплантацией ионов бора // Журнал Белорусского государственного университета. – 2020. – № 2. – С. 62–69.
- 14. Бринкевич Д.И. Просолович В.С., Колос В.В., Зубова О.А., Вабищевич С.А. Инфракрасная Фурье-спектроскопия диффузного отражения пленок негативных фоторезистов серии AZ nLOF на монокристаллическом кремнии // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки. Физика – 2024. – № 2(43). – C. 34–40.
