- Код статьи
- S0544126925010034-1
- DOI
- 10.31857/S0544126925010034
- Тип публикации
- Статья
- Статус публикации
- Опубликовано
- Авторы
- Том/ Выпуск
- Том 54 / Номер выпуска 1
- Страницы
- 19-25
- Аннотация
- Проведен анализ ряда работ, посвященных моделированию процесса экспонирования фотоактивного слоя, лежащего на оптически согласованной подложке. Показана связь уравнений Дилла с ранее полученными системами уравнений. Последовательно рассмотрены способы сведения системы двух уравнений Дилла в частных производных к обыкновенным дифференциальным уравнениям, точность численного решения которых можно легко контролировать. Предложена процедура использования таких уравнений для характеризации фотохимических свойств позитивных фоторезистов.
- Ключевые слова
- экспонирование позитивных фоторезистов характеризация позитивных фоторезистов моделирование экспонирования позитивных фоторезистов
- Дата публикации
- 16.09.2025
- Год выхода
- 2025
- Всего подписок
- 0
- Всего просмотров
- 25
Библиография
- 1. Технология СБИС. Кн. 2. Под ред. С. Зи. М.: Мир. 1986. 453 с. [VLSI Technology. Edited by S. M. Sze. McGraw-Hill Book Company, New York, 1983]
- 2. Wegscheider R. Beiträge zur photochemischen Kinetik // Zeitschrift für Physikalische Chemie. 1922. V. 103. No. 1. P. 273–306. https://doi.org/10.1515/zpch-1922-10318
- 3. Herrick C.E. The Sensitometry of the Positive Diazotype Process // Journal of the Optical Society of America. 1952. V. 42. No. 12. P. 904–910. https://doi.org/10.1364/JOSA.42.000904
- 4. Herrick C.E. Solution of the Partial Differential Equations Describing Photodecomposition in a Light-absorbing Matrix having Light-absorbing Photoproducts // IBM Journal of Research and Development. 1966. V. 10. No. 1. P. 2–5. https://doi.org/10.1147/rd.101.0002
- 5. Dill F.H., Neureuther A.R. Machining integrated optical structures in photoresist // IEEE Transactions on Electron Devices. 1973. V. 20. No. 12. P. 1173–1173. https://doi.org/10.1109/T-ED.1973.17826
- 6. Neureuther A.R., Dill F.H. Photoresist modeling and device fabrication applications // Proceedings of the Symposium on Optical and Acoustical Microelectronics. Microwave Research Institute Symposia Series. 1975. V. 18. P. 233–249.
- 7. Dill F.H., Hornberger W.P., Hauge P.S., Shaw J.M. Characterization of positive photoresist // IEEE Transactions on Electron Devices. 1975. V. 22. No. 7. P. 445–452. https://doi.org/10.1109/T-ED.1975.18159
- 8. Dill F.H., Neureuther A.R., Tuttle J.A., Walker E.J. Modeling Projection Printing of Positive Photoresists // IEEE Transactions on Electron Devices. 1975. V. 22. No. 7. P. 456–464. https://doi.org/10.1109/T-ED.1975.18161
- 9. Арушанян О.Б., Залёткин С.Ф. Численное решение обыкновенных дифференциальных уравнений на Фортране. М.: Изд. МГУ. 1990. 336 с.
- 10. Dill F.H., Tuttle J.A., Neureuther A.R. Limits of optical lithography // International Electron Devices Meeting. 1974. P. 13–16. https://doi.org/10.1109/IEDM.1974.6219620
- 11. Хемминг Р.В. Численные методы для научных работников и инженеров. М.: Наука. 1968. 400 с. [Hamming R. W. Numerical Methods for Scientists and Engineers. McGraw-Hill Book Company, New York, 1962]
- 12. Краснов М.Л. Обыкновенные дифференциальные уравнения. М.: Высшая школа. 1983. 128 с.
