Влияние добавки водорода на электрофизические параметры и спектры излучения плазмы тетрафторметана
Влияние добавки водорода на электрофизические параметры и спектры излучения плазмы тетрафторметана
Аннотация
Код статьи
S0544126924030021-1
Тип публикации
Статья
Статус публикации
Опубликовано
Авторы
Мурин Д. Б.  
Аффилиация: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования “Ивановский государственный химико-технологический университет”
Страницы
206-211
Аннотация
Исследовано влияние добавки водорода на электрофизические параметры и спектры излучения тетрафторметана в условиях тлеющего разряда постоянного тока. Установлено, что температуры газа нелинейно изменяется с увеличением доли водорода в плазмообразующей смеси. Получены и проанализированы спектры излучения плазмы тетрафторметана с водородом. Показано, что излучение плазмы представлено атомарными и молекулярными компонентами, а зависимости интенсивностей излучения линий от внешних условий разряда определяются возбуждением излучающих состояний при прямых электронных ударах.
Ключевые слова
плазма тлеющий разряд тетрафторметан электрофизические параметры температура газа удельная мощность приведенная напряженность электрического поля спектры излучения интенсивность излучения
Классификатор
Получено
27.10.2024
Всего подписок
0
Всего просмотров
24
Оценка читателей
0.0 (0 голосов)
Цитировать   Скачать pdf

Библиография

1. Данилин Б.С., Киреев В.Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов / Под ред. Б.С. Данилина. М.: Энергоатомиздат, 1987. 264 с.

2. Светцов В.И., Ефремов А.М. Вакуумная и плазменная электроника: учеб. пособие. Иван. гос. хим.-технол. ун-т. Иваново, 2003. 171 с.

3. Wolf S., Tauber R.N. Silicon Processing for the VLSI Era. V. 1. Process Technology. N. Y.: Lattice Press, 2000. 890 p.

4. Ефремов А.М., Мурин Д.Б. Кинетика гетерогенной гибели атомов хлора и водорода в плазме бинарных смесей HCl + Ar, H2, O2 и Cl2 // Химия высоких энергий. 2015. Т. 49. № 4. С. 318.

5. Ефремов А.М., Мурин Д.Б. Электрофизические параметры плазмы бинарных смесей HCl + Ar, He, H2, O2 и Cl2 // Известия высших учебных заведений. Серия: химия и химическая технология. 2021. Т. 58. № 4. С. 14—18.

6. Пивоваренок С.А., Мурин Д.Б., Граждян А.Ю. Влияние состава смеси на электрофизические параметры и спектры излучения плазмы тетрафторметана и трифторметана с азотом // Химия высоких энергий. 2023. Т. 57. № 2. С. 144—148.

7. Мурин Д.Б., Ефремов А.М., Светцов В.И., Пивоваренок С.А., Годнев Е.М. Интенсивности излучения и концентрации нейтральных частиц в плазме тлеющего разряда постоянного тока в смесях HCl—H2 и HCl—O2 // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2013. Т. 56. № 8. С. 41—44.

8. Мурин Д.Б., Ефремов А.М., Светцов В.И., Пивоваренок С.А., Овцын А.А., Шабадаров С.С. Интенсивности излучения и концентрации активных частиц в плазме тлеющего разряда в смесях хлористого водорода с аргоном и гелием // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2013. Т. 56. № 4. С. 29—32.

9. Лебедев Ю.А. Методы контактной диагностики в неравновесной плазмохимии. М.: Наука, 1981. 142 с.

10. Рохлин Г.Н. Разрядные источники света. 2-е изд., перераб. и доп. М.: Энергатомиздат, 1991. 720 с.

11. Мурин Д.Б., Дунаев А.В. Электрофизические параметры и спектры излучения плазмы трихлорида бора // Микроэлектроника. 2018. Т. 47. № 2. С. 106—114.

12. Пирс Р., Гейдон А. Отождествление молекулярных спектров. М.: Изд. иностр. лит., 1949. 540 с.

13. Свентицкий А.Р., Стриганов Н.С. Таблицы спектральных линий нейтральных и ионизованных атомов. М. : Атомиздат, 1966. 900 с.

14. Мурин Д.Б., Пивоваренок С.А., Чесноков И.А., Гогулев И.А. Электрофизические характеристики и эмиссионные спектры плазмы тетрафторметана // Микроэлектроника. 2023. Т. 52. № 1. С. 11—19.

15. Ефремов А.М., Kвoн K.H., Мурин Д.Б. Параметры плазмы и кинетика активных частиц в смесях CF4(CHF3) + Ar переменного начального состава // Микроэлектроника. 2018. Т. 47. № 6. С. 414—423.

16. Ефремов А.М., Мурин Д.Б., Kвoн K.-H. Параметры плазмы и механизмы травления кремния в смеси CF4 + CHF3 + O2 // Микроэлектроника. 2019. T. 48. № 6. C. 1—9.

Комментарии

Сообщения не найдены

Написать отзыв
Перевести