О журнале

Журнал основан в 1972 г.

Выходит 6 раз в год.

г. Москва.

Учредители: Российская академия наук, Физико-технологический институт РАН им. К.А. Валиева Российской академии наук.

Издатель: Российская академия наук, г. Москва, Ленинский проспект, 14.

Главный редактор – Красников Геннадий Яковлевич, академик РАН, доктор технических наук.

Журнал посвящен технологическим, физическим и схемотехническим аспектам микро- и наноэлектроники. Особое внимание уделяется новым тенденциям в литографии (оптической, рентгеновской, электронной, ионной), травлению, легированию, осаждению и планаризации на субмикронном и нанометровом уровнях. Значительное место отводится плазменным технологиям, молекулярно-пучковой эпитаксии и сухому травлению, а также методам исследования и контроля поверхностей и многослойных структур.

В журнале обсуждаются вопросы приборно-технологического моделирования и диагностики технологических процессов в реальном времени. Публикуются статьи о полупроводниковых приборах на базе новых физических явлений, таких как квантовые размерные эффекты и сверхпроводимость.

Журнал предназначен для специалистов научно-исследовательских институтов, высших учебных заведений и производственно-контрольных лабораторий, а также для аспирантов.