- Код статьи
- S0544126925020023-1
- DOI
- 10.31857/S0544126925020023
- Тип публикации
- Статья
- Статус публикации
- Опубликовано
- Авторы
- Том/ Выпуск
- Том 54 / Номер выпуска 2
- Страницы
- 116-127
- Аннотация
- Спонтанное залипание элементов МЭМС в процессе изготовления или эксплуатации представляет серьезную проблему. Капиллярные или электростатические силы, приводящие к залипанию, можно исключить, однако дисперсионные силы вследствие их фундаментальной природы присутствуют всегда и должны быть детально исследованы. В настоящей работе эти силы исследуются экспериментально для систем Si-Au и Si-Ru с помощью тестовой структуры - залипшего кантилевера. Длинные (12 мм) и тонкие (10 мкм) кантилеверы позволяют провести измерения с высокой точностью. В работе детально обсуждается процедура изготовления кантилеверов и измерительного чипа. Информация об энергии адгезии извлекается из формы кантилевера, которая измеряется сканирующим интерферометром. Тщательно исследована шероховатость контактирующих поверхностей и получено равновесное среднее расстояние между поверхностями при контакте. Работа представляет интерес не только для МЭМС, но также позволяет получить фундаментальные знания о дисперсионных силах на малых расстояниях, недоступных для других методов измерений.
- Ключевые слова
- дисперсионные силы энергия адгезии шероховатость поверхности МЭМС
- Дата публикации
- 20.03.2025
- Год выхода
- 2025
- Всего подписок
- 0
- Всего просмотров
- 17
Библиография
- 1. Maboudian R., Howe R.T. Critical review: Adhesion in surface micromechanical structures // J. Vacuum Sci. Technol. B. 1997. V. 15. P. 1-20.
- 2. Mastrangelo C., Hsu C. A simple experimental technique for the measurement of the work of adhesion of microstructures // Technical Digest IEEE Solid-State Sensor and Actuator Workshop. 1992. P. 208-212.
- 3. Legtenberg R., Tilmans H.A., Elders J., Elwenspoek M. Stiction of surface micromachined structures after rinsing and drying: model and investigation of adhesion mechanisms // Sens. Actuators A. 1994. V. 43. P. 230-238.
- 4. Tas N., Sonnenberg T., Jansen H., Legtenberg R., Elwenspoek M. Stiction in surface micromachining // J. Micromech. Microeng. 1996. V. 6. 385.
- 5. London F. Zur theorie und systematik der molekularkräfte // Zeitschrift für Physik. 1963. V. 63. P. 245-279.
- 6. Бойнович Л.Б. Дальнодействующие поверхностные силы и их роль в развитии нанотехнологии // Успехи химии. 2007. Т. 76(5). С. 510-528.
- 7. Дерягин Б.В., Чураев Н.В., Муллер В.М. Поверхностные силы. Москва: Наука, 1985. 398 с.
- 8. Churaev N.V. Surface forces in wetting films // Adv. Colloid Interface Sci. 2003. V. 103. P. 197-218.
- 9. Лифшиц Е.М. Теория молекулярных сил притяжения между твердыми телами // ЖЭТФ. 1955. T. 29. C. 94-110.
- 10. Дзялошинский И.Е., Лифшиц Е.М., Питаевский Л.П. Общая теория ван-дер-ваальсовых сил // Успехи физических наук. 1961. T. 73(3). C. 381-422.
- 11. Лифшиц Е.М., Питаевский Л.П. Статистическая физика, часть 2. Москва: Наука, 1978. 448 c.
- 12. Casimir H.B.G. On the attraction between two perfectly conducting plates // Proc. Kon. Ned. Akad. Wet. 1948. V. 51. P. 793-795.
- 13. Klimchitskaya G.L., Mohideen U., Mostepanenko V.M. The Casimir force between real materials: Experiment and theory // Rev. Mod. Phys. 2009. V. 81. 1827.
- 14. Rodriguez A.W., Capasso F., Johnson S.G. The Casimir effect in microstructured geometries // Nat. Photonics. 2011. V. 3. P. 211.
- 15. Palasantzas G., Sedighi M., Svetovoy V.B. Applications of Casimir forces: Nanoscale actuation and adhesion // Appl. Phys. Lett. 2020. V. 117. 120501.
- 16. Harris B.W., Chen F., Mohideen U. Precision measurement of the Casimir force using gold surfaces // Phys. Rev. A. 2000. V. 62. 052109.
- 17. Chan H.B., Aksyuk V.A., Kleiman R.N., Bishop D.J., Capasso F. Quantum mechanical actuation of microelectromechanical systems by the Casimir force // Science. 2001. V. 291. P. 1941-1944.
- 18. van Zwol P.J., Palasantzas G., De Hosson J.T.M. Influence of random roughness on the Casimir force at small separations // Phys. Rev. B. 2008. V. 77. 075412.
- 19. Sedighi M., Svetovoy V.B., Palasantzas G. Casimir force measurements from silicon carbide surfaces // Phys. Rev. B. 2016. V. 93. 085434.
- 20. Mastrangelo C.H., Hsu C.H. Mechanical stability and adhesion of microstructures under capillary forces. I. Basic theory // J. Microelectromech. Syst. 1993. V. 2. P. 33-43.
- 21. Mastrangelo C.H., Hsu C.H. Mechanical stability and adhesion of microstructures under capillary forces. II. Experiments // J. Microelectromech. Syst. 1993. V. 2. P. 44-55.
- 22. de Boer M.P., Michalske T.A. Accurate method for determining adhesion of cantilever beams // J. Appl. Phys. 1999. V. 86. P. 817-827.
- 23. Knapp J.A., de Boer M.P. Mechanics of microcantilever beams subject to combined electrostatic and adhesive forces // J. Microelectromech. Syst. 2002. V. 11. P. 754-764.
- 24. DelRio F.W., Dunn M.L., Phinney L.M., Bourdon C.J., de Boer M.P. Rough surface adhesion in the presence of capillary condensation // Appl. Phys. Lett. 2007. V. 90. 163104.
- 25. van Zwol P.J., Palasantzas G., De Hosson J.T.M. Influence of random roughness on the adhesion between metal surfaces due to capillary condensation // Appl. Phys. Lett. 2007. V. 91. 101905.
- 26. DelRio F.W., de Boer M.P., Knapp J.A., Reedy E.D., Clews P.J., Dunn M.L. The role of van der Waals forces in adhesion of micromachined surfaces // Nat. Mater. 2005. V. 4. P. 629-634.
- 27. Svetovoy V., Postnikov A., Uvarov I., Stepanov F., Palasantzas G. Measuring the dispersion forces near the van der Waals-Casimir transition // Phys. Rev. Appl. 2020. V. 13. 064057.
- 28. Морозов О.В. Динамика осаждения и удаления фторуглеродной пленки в циклическом процессе плазмохимического травления кремния // Известия РАН. Серия физическая. 2024. Т. 88. № 4. C. 531-537.
- 29. Morozov O.V., Amirov I.I. Aspect-ratio-independent anisotropic silicon etching in a plasma chemical cyclic process // Russ. Microelectron. 2007. V. 36. P. 333-341.
- 30. Soldatenkov I.A., Stepanov F.I., Svetovoy V.B. Dispersion forces and equilibrium distance between deposited rough films in contact // Phys. Rev. B. 2022. V. 105. 075401.
- 31. van Zwol P.J., Svetovoy V.B., Palasantzas G. Distance upon contact: Determination from roughness profile // Phys. Rev. B. 2009. V. 80. 235401.
- 32. Muravyeva T.I., Uvarov I.V., Naumov V.V., Palasantzas G., Svetovoy V.B. Excessive number of high asperities for sputtered rough films // Phys. Rev. B. 2021. V. 104. 035415.
- 33. Postnikov A.V., Uvarov I.V., Svetovoy V.B. Experimental setup for measuring the dispersion forces by the adhered cantilever method // Rev. Sci. Instrum. 2023. V. 94. 043907.
- 34. Hopcroft M.A., Nix W.D., Kenny T.W. What is the Young’s modulus of silicon? // J. Microelectromech. Syst. 2010. V. 19. P. 229-238.
- 35. Soldatenkov I.A., Svetovoy V.B. Adhesion energy for a nonideal cantilever and its relation to the Casimir- Lifshitz forces // Physics. 2024. V. 6. 1204.
- 36. Derjaguin B. Untersuchungen über die Reibung und Adhäsion, IV // Kolloid-Zeitschrift. 1934. V. 69. P. 155-164.
