- Код статьи
- S0544126925010027-1
- DOI
- 10.31857/S0544126925010027
- Тип публикации
- Статья
- Статус публикации
- Опубликовано
- Авторы
- Том/ Выпуск
- Том 54 / Номер выпуска 1
- Страницы
- 9-18
- Аннотация
- В данной работе описывается моделирование рассеяния электронного пучка в полиметилметакрилате (ПММА) и кремнии (Si) методом Монте-Карло с использованием различных моделей рассеяния. Для каждого вещества при моделировании использовались три различные комбинации моделей упругого и неупругого рассеяния из числа наиболее распространенных, как с учетом генерации вторичных электронов, так и без него. В результате моделирования были получены распределения поглощенной энергии и распределения актов рассеяния по координате, анализ которых позволил выявить характерные особенности различных моделей рассеяния.
- Ключевые слова
- электронно-лучевая литография моделирование методом Монте-Карло распределения поглощения энергии
- Дата публикации
- 16.09.2025
- Год выхода
- 2025
- Всего подписок
- 0
- Всего просмотров
- 18
Библиография
- 1. Aktary M., Stepanova M., Dew S.K. Simulation of the spatial distribution and molecular weight of polymethylmethacrylate fragments in electron beam lithography exposures // J. Vac. Sci. Technol. B: Microelectron. Nanom. Struct. Proc. Meas. Phen. 2006, V. 24, № 2. P. 768–779.
- 2. Cui Z. Monte Carlo simulation of electron beam lithography on topographical substrates // Microelectron. Eng. 1998, V. 41. P. 175–178.
- 3. Mladenov G.M., Vutova K.J., Koleva E.G. Computer Simulation of Electron and Ion Beam Lithography of Nanostructures // Phys. Chem. Sol. St. 2009, V. 3. P. 707–714.
- 4. Рогожин А.Е., Сидоров Ф.А. Моделирование процессов электронно-лучевой литографии // Микроэлектроника 2020, Т. 49, № 2. С. 116–132.
- 5. Рогожин А.Е., Сидоров Ф.А. Сечения процессов рассеяния при электронно-лучевой литографии // Микроэлектроника 2023, Т. 52, № 2. С. 110–126.
- 6. Greeneich J.S. Developer Characteristics of Poly-(Methyl Methacrylate) Electron Resist // J. Electrochem. Soc. 1975, V. 122, № 7. P. 970.
- 7. Dapor M. Transport of Energetic Electrons in Solids: Computer Simulation with Applications to Materials Analysis and Characterization // Springer Nature 2023, V. 290.
- 8. Czyżewski Z. et al. Calculations of Mott scattering cross section // J. Appl. Phys. 1990, V. 68, № 7. P. 3066–3072.
- 9. Seltzer S.M., Berger M.J. Evaluation of the collision stopping power of elements and compounds for electrons and positrons // Int. J. Appl. Radiat. Isot. 1982, V. 33, № 11. P. 1189–1218.
- 10. Joy D.C., Luo S. An empirical stopping power relationship for low-energy electrons // Scanning 1989, V. 11, № 4. P. 176–180.
- 11. Gryziński M. Classical theory of atomic collisions. I. Theory of inelastic collisions // Phys. Rev. 1965, V. 138, № 2A.
- 12. Henke B.L., Gullikson E.M., Davis J.C. X-Ray Interactions: Photoabsorption, Scattering, Transmission, and Reflection at E = 50–30,000 eV, Z = 1–92 // At. Dat. Nucl. Dat. Tabl. 1993, V. 54, № 2. P. 181–342.
- 13. Ritsko J.J. et al. Electron energy loss spectroscopy and the optical properties of polymethylmethacrylate from 1 to 300 eV // J. Chem. Phys. 1978, V. 69, № 9. P. 3931–3939.
- 14. Palik E.D. Handbook of Optical Constants of Solids // Handbook of Optical Constants of Solids ed. Palik E. D. USA: Academic Press, 1998.
- 15. Dapor M. Energy loss of fast electrons impinging upon polymethylmethacrylate // Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. B. 2015, V. 352. P. 190–194.
- 16. Dapor M. Mermin Differential Inverse Inelastic Mean Free Path of Electrons in Polymethylmethacrylate // Front. Mater. 2015, V. 2. P. 1.
- 17. Ganachaud J.P., Mokrani A. Theoretical study of the secondary electron emission of insulating targets // Surf. Sci. 1995, V. 334, № 1. P. 329–341.
- 18. Tan Z. et al. Monte-Carlo simulation of low-energy electron scattering in PMMA – Using stopping powers from dielectric formalism // Microelectron. Eng. 2005, V. 77, № 3. P. 285–291.
- 19. Lotz W. Subshell Binding Energies of Atoms and Ions from Hydrogen to Zinc* // J. Opt. Soc. Am. 1968, V. 58, № 7. P. 915.
- 20. Valkealahti S., Nieminen R.M. Monte-Carlo calculations of keV electron and positron slowing down in solids // Appl. Phys. A 1983, V. 32, № 2. P. 95–106.
- 21. de Vera P., Abril I., Garcia-Molina R. Inelastic scattering of electron and light ion beams in organic polymers // J. Appl. Phys. 2011, V. 109, № 9. P. 094901.
- 22. Sidorov F. et al. Direct Monte-Carlo simulation of dry e-beam etching of resist // Microelectron. Eng. 2020, Vol. 227. P. 111313.
