Везде
Influence of Hydrogen Additive on Electrophysical Parameters and Emission Spectra of Tetrafluoromethane Plasma
Table of contents
Annotation Estimate Publication content
References Comments
Share
QR
Metrics
Influence of Hydrogen Additive on Electrophysical Parameters and Emission Spectra of Tetrafluoromethane Plasma
Annotation
PII
S0544126924030021-1
Publication type
Article
Status
Published
Authors
D. B. Murin 
Affiliation: Federal State Budgetary Educational Institution of Higher Education “Ivanovo State Chemical-Technological University”
Edition
Volume 53 Issue number 3
Pages
206-211
Abstract
The influence of the addition of hydrogen on the electrophysical parameters and emission spectra of tetrafluoromethane under conditions of a direct current glow discharge has been studied. It has been established that gas temperature changes nonlinearly with increasing proportion of hydrogen in the plasma-forming mixture. The emission spectra of tetrafluoromethane plasma with hydrogen were obtained and analyzed. It is shown that plasma radiation is represented by atomic and molecular components, and the dependences of the line radiation intensities on the external conditions of the discharge are determined by the excitation of emitting states during direct electron impacts.
Keywords
плазма тлеющий разряд тетрафторметан электрофизические параметры температура газа удельная мощность приведенная напряженность электрического поля спектры излучения интенсивность излучения
Received
27.10.2024
Number of purchasers
0
Views
25
Readers community rating
0.0 (0 votes)
Cite   Download pdf

References

1. Данилин Б.С., Киреев В.Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов / Под ред. Б.С. Данилина. М.: Энергоатомиздат, 1987. 264 с.

2. Светцов В.И., Ефремов А.М. Вакуумная и плазменная электроника: учеб. пособие. Иван. гос. хим.-технол. ун-т. Иваново, 2003. 171 с.

3. Wolf S., Tauber R.N. Silicon Processing for the VLSI Era. V. 1. Process Technology. N. Y.: Lattice Press, 2000. 890 p.

4. Ефремов А.М., Мурин Д.Б. Кинетика гетерогенной гибели атомов хлора и водорода в плазме бинарных смесей HCl + Ar, H2, O2 и Cl2 // Химия высоких энергий. 2015. Т. 49. № 4. С. 318.

5. Ефремов А.М., Мурин Д.Б. Электрофизические параметры плазмы бинарных смесей HCl + Ar, He, H2, O2 и Cl2 // Известия высших учебных заведений. Серия: химия и химическая технология. 2021. Т. 58. № 4. С. 14—18.

6. Пивоваренок С.А., Мурин Д.Б., Граждян А.Ю. Влияние состава смеси на электрофизические параметры и спектры излучения плазмы тетрафторметана и трифторметана с азотом // Химия высоких энергий. 2023. Т. 57. № 2. С. 144—148.

7. Мурин Д.Б., Ефремов А.М., Светцов В.И., Пивоваренок С.А., Годнев Е.М. Интенсивности излучения и концентрации нейтральных частиц в плазме тлеющего разряда постоянного тока в смесях HCl—H2 и HCl—O2 // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2013. Т. 56. № 8. С. 41—44.

8. Мурин Д.Б., Ефремов А.М., Светцов В.И., Пивоваренок С.А., Овцын А.А., Шабадаров С.С. Интенсивности излучения и концентрации активных частиц в плазме тлеющего разряда в смесях хлористого водорода с аргоном и гелием // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2013. Т. 56. № 4. С. 29—32.

9. Лебедев Ю.А. Методы контактной диагностики в неравновесной плазмохимии. М.: Наука, 1981. 142 с.

10. Рохлин Г.Н. Разрядные источники света. 2-е изд., перераб. и доп. М.: Энергатомиздат, 1991. 720 с.

11. Мурин Д.Б., Дунаев А.В. Электрофизические параметры и спектры излучения плазмы трихлорида бора // Микроэлектроника. 2018. Т. 47. № 2. С. 106—114.

12. Пирс Р., Гейдон А. Отождествление молекулярных спектров. М.: Изд. иностр. лит., 1949. 540 с.

13. Свентицкий А.Р., Стриганов Н.С. Таблицы спектральных линий нейтральных и ионизованных атомов. М. : Атомиздат, 1966. 900 с.

14. Мурин Д.Б., Пивоваренок С.А., Чесноков И.А., Гогулев И.А. Электрофизические характеристики и эмиссионные спектры плазмы тетрафторметана // Микроэлектроника. 2023. Т. 52. № 1. С. 11—19.

15. Ефремов А.М., Kвoн K.H., Мурин Д.Б. Параметры плазмы и кинетика активных частиц в смесях CF4(CHF3) + Ar переменного начального состава // Микроэлектроника. 2018. Т. 47. № 6. С. 414—423.

16. Ефремов А.М., Мурин Д.Б., Kвoн K.-H. Параметры плазмы и механизмы травления кремния в смеси CF4 + CHF3 + O2 // Микроэлектроника. 2019. T. 48. № 6. C. 1—9.

Comments

No posts found

Write a review
Translate