By this author

Exposure kinetics of a positive photoresist layer on an optically matched substrate

from 01.01.2025

Проведен анализ ряда работ, посвященных моделированию процесса экспонирования фотоактивного слоя, лежащего на оптически согласованной подложке. Показана связь уравнений Дилла с ранее полученными системами уравнений. Последовательно рассмотрены способы сведения системы двух уравнений Дилла в частных производных к обыкновенным дифференциальным уравнениям, точность численного решения которых можно легко контролировать. Предложена процедура использования таких уравнений для характеризации фотохимических свойств позитивных фоторезистов.

90 0

Exposure kinetics of a positive photoresist layer on an optically matched substrate

Issue number 1 from 05.11.2025

Проведен анализ ряда работ, посвященных моделированию процесса экспонирования фотоактивного слоя, лежащего на оптически согласованной подложке. Показана связь уравнений Дилла с ранее полученными системами уравнений. Последовательно рассмотрены способы сведения системы двух уравнений Дилла в частных производных к обыкновенным дифференциальным уравнениям, точность численного решения которых можно легко контролировать. Предложена процедура использования таких уравнений для характеризации фотохимических свойств позитивных фоторезистов.

16 0