Везде

ОНИТМикроэлектроника Russian Microelectronics

  • ISSN (Print) 0544-1269
  • ISSN (Online) 3034-5480

Кудря В. П.

  • Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН<i> </i>
  • Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН<i> </i>
Код пользователя
84695

Статьи автора

  • Кинетика экспонирования слоя позитивного фоторезиста на оптически согласованной подложке

    от 01.01.2025
    Проведен анализ ряда работ, посвященных моделированию процесса экспонирования фотоактивного слоя, лежащего на оптически согласованной подложке. Показана связь уравнений Дилла с ранее полученными системами уравнений. Последовательно рассмотрены способы сведения системы двух уравнений Дилла в частных производных к обыкновенным дифференциальным уравнениям, точность численного решения которых можно легко контролировать. Предложена процедура использования таких уравнений для характеризации фотохимических свойств позитивных фоторезистов.
    89 0

  • Кинетика экспонирования слоя позитивного фоторезиста на оптически согласованной подложке

    Проведен анализ ряда работ, посвященных моделированию процесса экспонирования фотоактивного слоя, лежащего на оптически согласованной подложке. Показана связь уравнений Дилла с ранее полученными системами уравнений. Последовательно рассмотрены способы сведения системы двух уравнений Дилла в частных производных к обыкновенным дифференциальным уравнениям, точность численного решения которых можно легко контролировать. Предложена процедура использования таких уравнений для характеризации фотохимических свойств позитивных фоторезистов.
    11 0

Индексирование

Scopus

Scopus

Scopus

Crossref

Scopus

Высшая аттестационная комиссия

При Министерстве образования и науки Российской Федерации

Scopus

Научная электронная библиотека