By this author

Electron cyclotron resonance plasma studies using the second cyclotron harmonic resonance

Issue number 5 from 16.09.2025

СВЧ плазма (частота генерации 2.45 ГГц, мощность 200–1000 Вт, давление 0.2–10 мТорр) возбуждалась и поддерживалась в двух основных режимах: (1) при непрерывной подаче СВЧ мощности и низких магнитных полях (В = 300–450 Гс) в условиях сверхплотной (N_e > N_cr = 7.4 ´ 10¹⁰ см^–3) плазмы и низкой плотности плазмы (N_e < N_cr); (2) при высоких магнитных полях (В = 750–1000 Гс), близких к ЭЦР-условию. Исследовались особенности генерации плазмы при условии ЭЦР и при условии резонанса на второй циклотронной гармонике.

90 0