Статьи автора

Молекулярное наслаивание аддитивного слоя диоксида кремния на анодированные оксиды тантала и ниобия

Номер выпуска 1 от 16.09.2025

Представлены результаты изучения процессов формирования нанослоев оксида кремния методом молекулярного наслаивания (атомно-слоевого осаждения) на поверхности пленок оксидов тантала и ниобия, полученных электрохимическим окислением соответствующих металлов. Исследование электрической прочности структур металл—диэлектрик—металл (МДМ) на основе оксидов тантала и ниобия показало, что введение аддитивного слоя диэлектрика (SiO₂) позволяет значительно повысить электрическую прочность указанных структур.

101 0