- PII
- 10.31857/S0544126923700503-1
- DOI
- 10.31857/S0544126923700503
- Publication type
- Status
- Published
- Authors
- Volume/ Edition
- Volume 52 / Issue number 5
- Pages
- 347-353
- Abstract
- The effect of the external discharge parameters on the electrophysical parameters and emission spectra of difluorodichloromethane plasma is analyzed. Data on the reduced electric field strength and gas temperature are obtained. It is established that the reduced electric field strength in difluorodichloromethane plasma decreases markedly with increasing gas pressure (at a constant discharge current). It is shown that a linear increase in the gas temperature with increasing pressure is due to the increase in the specific power deposited in the discharge. Atomic and molecular components are found in the emission spectra of the glow discharge of difluorodichloromethane. It is established that, with increasing current, a linear increase in the radiation intensity occurs, which corresponds to the mechanism of the direct excitation of the radiating states upon electron impact and indicates the absence of secondary processes.
- Keywords
- дифтордихлорметан приведенная напряженность электрического поля температура газа удельная мощность интенсивность излучения концентрации частиц
- Date of publication
- 16.09.2025
- Year of publication
- 2025
- Number of purchasers
- 0
- Views
- 18
References
- 1. Данилин Б.С., Киреев В.Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. М.: Энергоатомиздат, 1987. С. 264.
- 2. Дунаев А.В., Ситанов Д.В., Мурин Д.Б. Закономерности взаимодействия меди с хлорсодержащими газами // Химия высоких энергий. 2017. Т. 51. № 3. С. 239–243.
- 3. Wang Y.F., Lee W.J., Chen C.Y. Reaction Mechanisms in Both a CCl2F2/O2/Ar and a CCl2F2/H2/Ar RF Plasma Environment // Plasma Chem. and Plasma Proces. 2000. V. 20. № 4. P. 469–494.
- 4. Stoffels W.W., Stoffels E., Haverlag M. The chemistry of a CCl2F2 radio frequency discharge // J. Vac. Sci. Technol. A. 1995. V. 13. № 4. P. 2058–2066.
- 5. Ефремов А.М., Мурин Д.Б., Левенцов А.Е. Кинетика и режимы плазмохимического травления GaAs в условиях индукционного ВЧ разряда в CF2Cl2 // Микроэлектроника. 2014. Т. 43. № 6. С. 429–434.
- 6. Пивоваренок С.А., Дунаев А.В., Мурин Д.Б. Кинетика взаимодействия высокочастотного разряда CCl2F2 с арсенидом галлия // Микроэлектроника. 2016. Т. 45. № 5. С. 374–378.
- 7. Dunaev A.V., Murin D.B. Structuring copper in the plasma medium of a high-frequency discharge // Russian Microelectronics. 2018. V. 47. № 4. P. 234–238.
- 8. Pearse R.W.B., Gaydon A.G. The identification of molecular spectra. Fourth edition. New York: John Wiley & Sons, inc. 1976. P. 407.
- 9. Стриганов А.Р., Свентицкий Н.С. Таблицы спектральных линий нейтральных и ионизированных атомов. М.: Атомиздат., 1966. С. 899.
- 10. Рохлин Г.Н. Разрядные источники света. Изд. 2-е; перераб. и доп. М.: Энергатомиздат, 1991. С. 720.
- 11. Мурин Д.Б., Дунаев А.В. Электрофизические параметры и спектры излучения плазмы трихлорида бора // Микроэлектроника. 2018. Т. 47. № 2. С. 106–114.
- 12. Мурин Д.Б., Пивоваренок С.А., Малюгин А.А., Бобылев А.В. Электрофизические параметры и спектры излучения тлеющего разряда постоянного тока в среде фреона R-23 // Микроэлектроника. 2022. Т. 51. № 3. С. 212–217.
- 13. Пивоваренок С.А., Дунаев А.В., Мурин Д.Б., Ефремов А.М., Светцов В.И. Электрофизические параметры и эмиссионные спектры плазмы тлеющего разряда в хлористом водороде // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2011. Т. 54. № 9. С. 48–52.
- 14. Ефремов A.M., Куприяновская А.П., Светцов В.И. Спектр излучения тлеющего разряда в хлоре // Журнал прикладной спектроскопии. 1993. Т. 59. № 3–4. С. 222.
- 15. Куприяновская А.П., Светцов В.И. Механизмы образования и разрушения активных частиц в галогенной плазме // Изв. ВУЗов. Химия и хим.технология. 1983. Т. 26. № 12. С. 1440.
