ОНИТМикроэлектроника Russian Microelectronics

  • ISSN (Print) 0544-1269
  • ISSN (Online) 3034-5480

Измерения на РЭМ размеров рельефных структур в технологическом процессе производства микросхем

Код статьи
10.31857/S0544126923700254-1
DOI
10.31857/S0544126923700254
Тип публикации
Статус публикации
Опубликовано
Авторы
Том/ Выпуск
Том 52 / Номер выпуска 2
Страницы
87-95
Аннотация
Рассмотрены проблемы измерения на РЭМ размеров элементов рельефа в технологическом процессе производства микросхем. Первая проблема связана с тем, что увеличение РЭМ в процессе работы может меняться в широких пределах в зависимости от измеряемых размеров. Вторая проблема связана с тем, что диаметр зонда, определенный в процессе калибровки РЭМ, отличается от диаметра, используемого при рабочих измерениях. Третья проблема связана с тем, что неизвестно какой параметр рельефа измеряется в методе дефокусировки РЭМ. Показано, что для решения первой проблемы необходимо калибровать метку на изображении с помощью структур с трапециевидным профилем и большими углами наклона боковых стенок. Решение второй проблемы основано на методе дефокусировки зонда РЭМ – определении зависимости размеров между определенными точками на сигналах РЭМ от диаметра зонда и экстраполяции этой зависимости к нулевому значению диаметра. Третья проблема решается с помощью виртуального растрового электронного микроскопа.
Ключевые слова
наноэлектроника микро- и нанотехнолигии измерение размеров растровый электронный микроскоп калибровка РЭМ дефокусировка зонда виртуальный растровый электронный микроскоп
Дата публикации
16.09.2025
Год выхода
2025
Всего подписок
0
Всего просмотров
17

Библиография

  1. 1. Gavrilenko V.P., Novikov Yu.A., Rakov A.V., Todua P.A. // Proc. SPIE. 2009. V. 7405. P. 740504. https://doi.org/10.1117/12.826164
  2. 2. Gavrilenko V.P., Novikov Yu.A., Rakov A.V., Todua P.A., Volk Ch.P. // Proc. SPIE. 2009. V. 7272. P. 72720Z. https://doi.org/10.1117/12.813514
  3. 3. Novikov Yu.A., Darznek S.A., Filippov M.N., Mityukhlyaev V.B., Rakov A.V., Todua P.A. // Proc. SPIE. 2008. V. 7025. P. 702511. https://doi.org/10.1117/12.802428
  4. 4. Novikov Yu.A., Gavrilenko V.P., Ozerin Yu.V., Rakov A.V., Todua P.A. // Proc. SPIE. 2007. V. 6648. P. 66480R. https://doi.org/10.1117/12.733134
  5. 5. Häßler-Grohne W., Bosse H. // Measurement science and technology. 1998. V. 9. P. 1120.
  6. 6. Gavrilenko V.P., Novikov Yu.A., Rakov A.V., Todua P.A. // Proc. SPIE. 2008. V. 7042. P. 70420C. https://doi.org/10.1117/12.794891
  7. 7. SEM Performance Standard. Standard Reference Material 2069a. NBS. 1985.
  8. 8. Oho E., Sasaki T., Kanaya K. // Research Reports of Kogakuin University. 1985. № 59. P. 106 (1985).
  9. 9. Gavrilenko V.P., Kalnov V.A., Novikov Yu.A., Orlikovsky A.A., Rakov A.V., Todua P.A., Valiev K.A., Zhikharev E.N. // Proc. SPIE. 2009. V. 7272. P. 727227. https://doi.org/10.1117/12.814062
  10. 10. Новиков Ю.А. // Микроэлектроника. 2017. Т. 46. № 1. С. 61. https://doi.org/10.7868/S0544126917010070
  11. 11. Новиков Ю.А. // Микроэлектроника. 2014. Т. 43. № 6. С. 456. https://doi.org/10.7868/S0544126914060076
QR
Перевести

Индексирование

Scopus

Scopus

Scopus

Crossref

Scopus

Высшая аттестационная комиссия

При Министерстве образования и науки Российской Федерации

Scopus

Научная электронная библиотека