- PII
- 10.31857/S0544126923600161-1
- DOI
- 10.31857/S0544126923600161
- Publication type
- Status
- Published
- Authors
- Volume/ Edition
- Volume 52 / Issue number 6
- Pages
- 443-448
- Abstract
- Probe and spectral measurements of the plasma of the gaseous medium BCl3-Cl2 were carried out. Data were obtained on the influence of the initial composition of the gaseous medium on the electric field strength, gas temperature, particle concentration, reduced electric field strength under conditions of a direct current glow discharge. The emission spectra of the plasma of the gaseous medium BCl3-Cl2 were analyzed, the main emitting components were identified, and the relationships between radiation intensities and particle concentrations were established.
- Keywords
- трихлорид бора хлор газовая среда приведенная напряженность электрического поля температура газа удельная мощность интенсивность излучения концентрации частиц
- Date of publication
- 16.09.2025
- Year of publication
- 2025
- Number of purchasers
- 0
- Views
- 21
References
- 1. Roosmalen A.J., Baggerman J.A.G., Brader S.J.H. Dry etching for VLSI. N. Y.: Plenum Press. 1991. 457 p.
- 2. Rooth J.R. Industrial plasma engineering. Philadelphia: IOP Publishing LTD. 1995. V. 1. 545 p.
- 3. Ефремов А.М., Мурин Д.Б. Параметры плазмы и механизмы травления металлов и полупроводников в смесях HCl + Ar, H2, O2 и Cl2 // Микроэлектроника. 2015. Т. 44. № 5. С. 338–345.
- 4. Иванов Ю.А., Лебедев Ю.А., Полак Л.С. Методы контактной диагностики в неравновесной плазмохимии. М.: Наука, 1981. 142 с.
- 5. Рохлин Г.Н. Разрядные источники света. Изд. 2-е; перераб. и доп. М.: Энергатомиздат, 1991. С. 720.
- 6. Мурин Д.Б., Дунаев А.В. Электрофизические параметры и спектры излучения плазмы трихлорида бора // Микроэлектроника. 2018. Т. 47. № 2. С. 106–114.
- 7. Pearse R.W.B., Gaydon A.G. The identification of molecular spectra. Fourth edition. New York: John Wiley & Sons, inc. 1976. P. 407.
- 8. Стриганов А.Р., Свентицкий Н.С. Таблицы спектральных линий нейтральных и ионизированных атомов. М.: Атомиздат., 1966. С. 899.
- 9. Дунаев А.В., Мурин Д.Б. Электрофизические параметры и концентрации активных частиц в плазме смесей HCl c инертными и молекулярными газами // Микроэлектроника. 2014. Т. 43. № 5. С. 363.
- 10. Ефремов А.М., Мурин Д.Б. Электрофизические параметры плазмы бинарных смесей HCl + Ar, He, H2, O2 и Cl2 // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2015. Т. 58. № 4. С. 14–18.
- 11. Ефремов А.М., Пивоваренок С.А., Светцов В.И. Параметры плазмы и механизмы травления металлов и полупроводников в хлороводороде // Микроэлектроника. 2009. Т. 38. № 3. С. 163–175.
- 12. Ситанов Д.В., Ефремов А.М., Светцов В.И. Параметры плазмы и кинетика образования и гибели а-тивных частиц в разряде в хлоре // ТВТ. 2008. Т. 46. № 1. С. 15–22.
