- Код статьи
- 10.31857/S0544126923600161-1
- DOI
- 10.31857/S0544126923600161
- Тип публикации
- Статус публикации
- Опубликовано
- Авторы
- Том/ Выпуск
- Том 52 / Номер выпуска 6
- Страницы
- 443-448
- Аннотация
- Проведены зондовые и спектральные измерения плазмы газовой среды BCl3–Cl2. Получены данные по влиянию начального состава газовой среды на напряженность электрического поля, температуру газа, концентрацию частиц, приведенную напряженности электрического поля в условиях тлеющего разряда постоянного тока. Проанализированы спектры излучения плазмы газовой среды BCl3–Cl2, идентифицированы основные излучающих компонентов и установлены взаимосвязи между интенсивностями излучения и концентрациями частиц.
- Ключевые слова
- трихлорид бора хлор газовая среда приведенная напряженность электрического поля температура газа удельная мощность интенсивность излучения концентрации частиц
- Дата публикации
- 16.09.2025
- Год выхода
- 2025
- Всего подписок
- 0
- Всего просмотров
- 17
Библиография
- 1. Roosmalen A.J., Baggerman J.A.G., Brader S.J.H. Dry etching for VLSI. N. Y.: Plenum Press. 1991. 457 p.
- 2. Rooth J.R. Industrial plasma engineering. Philadelphia: IOP Publishing LTD. 1995. V. 1. 545 p.
- 3. Ефремов А.М., Мурин Д.Б. Параметры плазмы и механизмы травления металлов и полупроводников в смесях HCl + Ar, H2, O2 и Cl2 // Микроэлектроника. 2015. Т. 44. № 5. С. 338–345.
- 4. Иванов Ю.А., Лебедев Ю.А., Полак Л.С. Методы контактной диагностики в неравновесной плазмохимии. М.: Наука, 1981. 142 с.
- 5. Рохлин Г.Н. Разрядные источники света. Изд. 2-е; перераб. и доп. М.: Энергатомиздат, 1991. С. 720.
- 6. Мурин Д.Б., Дунаев А.В. Электрофизические параметры и спектры излучения плазмы трихлорида бора // Микроэлектроника. 2018. Т. 47. № 2. С. 106–114.
- 7. Pearse R.W.B., Gaydon A.G. The identification of molecular spectra. Fourth edition. New York: John Wiley & Sons, inc. 1976. P. 407.
- 8. Стриганов А.Р., Свентицкий Н.С. Таблицы спектральных линий нейтральных и ионизированных атомов. М.: Атомиздат., 1966. С. 899.
- 9. Дунаев А.В., Мурин Д.Б. Электрофизические параметры и концентрации активных частиц в плазме смесей HCl c инертными и молекулярными газами // Микроэлектроника. 2014. Т. 43. № 5. С. 363.
- 10. Ефремов А.М., Мурин Д.Б. Электрофизические параметры плазмы бинарных смесей HCl + Ar, He, H2, O2 и Cl2 // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2015. Т. 58. № 4. С. 14–18.
- 11. Ефремов А.М., Пивоваренок С.А., Светцов В.И. Параметры плазмы и механизмы травления металлов и полупроводников в хлороводороде // Микроэлектроника. 2009. Т. 38. № 3. С. 163–175.
- 12. Ситанов Д.В., Ефремов А.М., Светцов В.И. Параметры плазмы и кинетика образования и гибели а-тивных частиц в разряде в хлоре // ТВТ. 2008. Т. 46. № 1. С. 15–22.
